主要用于LED襯底材料、半導體材料及外延材料的等離子刻蝕設備中，對設備刻蝕腔體的很好的防護作用。
材質為高純氧化鋁陶瓷 、氧化鋯陶瓷及碳化硅陶瓷，具有硬度高、耐磨損、精度保持性好、很好的耐等離子體轟擊等特性。高純高性能工程陶瓷材料能夠很好的解決新一代刻蝕技術中等離子體腐蝕、微粒產生、金屬污染和氧氣分解等問題。純度≥99.8%，具有優秀的耐等離子刻蝕能力，可非標定制。
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